產品介紹

NEMST-DP2002ALS 系列

垂直式電漿去膠渣機(含自動上下料系統)(高效能型,14/28/3

垂直式電漿去膠渣機(含自動上下料系統)(高效能型,14/28/3
垂直式電漿去膠渣機(含自動上下料系統)(高效能型,14/28/3
垂直式電漿去膠渣機(含自動上下料系統)(高效能型,14/28/3
垂直式電漿去膠渣機(含自動上下料系統)(高效能型,14/28/3
  • 搭配全自動/半自動板子上下料系統。 特殊電極設計、材料設計及流場設計,可提升電漿咬蝕速率2~3倍以上。
  • 同時整合感應耦合式電漿(ICP)及中空陰極電漿(HCP)設計之高密度電漿技術。
  • ICP及HCP之整合設計可確保腔體中之電漿密度,並提升處理速度。
  • 採用水冷式電極設計,可確保電極表面阻抗一致性,增加製程穩定度。
  • 可選擇多種製程氣體或混合氣。
  • 具備多項維護簡單及低維護成本的設計。
  • 高度親和力之人機介面設計。
  • 針對客戶的特殊需求,該機可增加客製化設計。
  • 可實施多步驟之製程參數。
  • 自動化生產,降低人力需求及產品的汙染。 具備極高電漿去膠渣效率,是傳統機台之2~3倍咬蝕速率。
  • 高咬蝕速率可縮短電漿時間為原來之1/2~1/3,大幅度地提升產能。
  • 極低的電漿處理溫度,可大幅降低爆板的風險,並增加產品之可靠度。 具備電漿去膠渣高均勻性。 可選用多種反應氣體或混合氣(如CF4、O2、N2、Ar、H2等),以達到最佳之電漿處理效果。 每循環可同時處理高達14/28片之510 mm x 610 mm板材或56/112片之200 mm x 250 mm之板材。 (硬板、軟板、軟硬結合板均可) 。
  • 蝕刻/去膠渣/去殘膠/表面清潔。
  • 盲埋孔或通孔之電漿處理。
  • 介層附著力之提升。
  • 光阻或光阻劑之去除。
  • 任何表面活化、表面粗糙度改善或表面改質之應用。